產品概述：

四路高溫真空CVD設備由滑動式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成

，溫度可以達到1200度，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調節(jié)可以是質子流量計，可以對多種氣體進行的混氣，然后導入到管式爐內部。

KJ-T1200-S60K-4C系列快速退火爐爐管兩端安裝真空法蘭，真空度用分子泵可以到10-5Torr，機械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達100°C/m。為取得最快加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得最快冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達到10°C/s，是低成本快速熱處理的理想爐子。

適用范圍：

四路高溫真空CVD設備是一種特殊的高真空CVD系統(tǒng)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、CVD涂層、真空退火用的理想產品。