顯示面板制造：是銦靶的應用領域，約占總需求的 52%，主要用于液晶顯示器（LCD）與有機發(fā)光二極管（OLED）的 ITO 透明導電膜制備，可使面板具有良好的導電性和透明性。
半導體領域：占比 28%，用于晶圓制造的金屬互聯(lián)層與鈍化層沉積，在第三代半導體器件制造中的滲透率持續(xù)攀升，如氮化鎵功率器件就需要使用銦靶。
熱等靜壓（HIP）工藝：在高溫和高壓環(huán)境下進行燒結(jié)，能夠顯著提高材料的致密度，減少材料中的孔隙，改善材料的微觀結(jié)構(gòu)，使得 ITO 靶材具有更高的電導率和機械強度，但該工藝成本較為昂貴。
顯示技術(shù)領域：廣泛應用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板顯示器件中作為透明電極，確保顯示設備既能透光顯示圖像，又能導電傳輸信號。
