制造ITO靶材是一項技術密集型的工作，涉及從原料配比到成型加工的多個環(huán)節(jié)。高質量的ITO靶材需要具備高密度、均勻性和穩(wěn)定性，而這些要求背后隱藏著復雜的工藝和諸多挑戰(zhàn)。
制備完成后，ITO靶材在實際應用中還會遇到一些問題：
濺射不均勻：如果靶材內部存在微小缺陷或成分偏差，濺射過程中可能出現(xiàn)局部過熱，導致薄膜厚度不一致。
靶材破裂：在高功率濺射時，靶材承受的熱應力可能超出其極限，造成破裂，進而影響生產線的連續(xù)性。
資源限制：ITO靶材依賴銦這種稀有金屬，而銦的全球儲量有限，價格波動較大。這不僅推高了成本，也促使業(yè)界尋找替代方案。
隨著高科技產業(yè)的迅猛發(fā)展，稀有金屬銦的需求日益增長。銦靶材與ITO靶材作為關鍵材料，在電子、光電及半導體等領域發(fā)揮著重要作用。本文旨在探討銦靶材與ITO靶材的區(qū)別，以及它們在回收技術、環(huán)保與經濟效益方面的差異。
在堆積如山的廢棄手機、平板電腦和液晶顯示器深處，隱藏著一種被稱為“電子時代血脈”的稀有金屬——銦。它雖在自然界中蹤跡難尋，卻在ITO靶材（氧化銦錫）中扮演著不可替代的角色，驅動著全球億萬塊液晶屏幕的清晰成像。隨著電子產品更新?lián)Q代加速，一條從“電子垃圾”到“戰(zhàn)略資源”的銦回收產業(yè)鏈正悄然崛起，成為保障產業(yè)與生態(tài)可持續(xù)的關鍵密碼。
