ITO靶材，全稱氧化銦錫靶材，是一種專門用于磁控濺射鍍膜的材料。氧化銦錫（簡(jiǎn)稱ITO）是一種n型半導(dǎo)體材料，通常由90%的氧化銦（In?O?）和10%的氧化錫（SnO?）組成。這種材料以其的透明度和導(dǎo)電性，成為現(xiàn)代電子工業(yè)中不可或缺的組成部分。無論是智能手機(jī)的觸摸屏、平板電腦的顯示面板，還是太陽能電池的透明電極，ITO靶材都以其獨(dú)特的功能支撐著這些設(shè)備的運(yùn)行。
目前，ITO靶材的制備主要有兩種常見方法：熱壓燒結(jié)法和冷等靜壓法。
熱壓燒結(jié)法
工藝流程：將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后，放入模具，在高溫（1000-1500°C）和高壓（幾十到幾百兆帕）下壓制成型。高溫使粉末顆粒熔融結(jié)合，形成致密的靶材結(jié)構(gòu)。
優(yōu)點(diǎn)：這種方法制備的靶材密度接近理論值（通常超過99%），晶粒分布均勻，適合高精度鍍膜需求。
缺點(diǎn)：設(shè)備復(fù)雜，能耗高，生產(chǎn)成本較高。
適用場(chǎng)景：高端電子產(chǎn)品，如智能手機(jī)、平板電腦的顯示屏制造。
區(qū)別對(duì)比
?成分差異：銦靶材為純金屬銦制成，而ITO靶材則是銦錫氧化物的復(fù)合物。
?用途不同：銦靶材主要用于需要高導(dǎo)電性和延展性的領(lǐng)域，如航空航天部件；ITO靶材則因其透明導(dǎo)電性廣泛應(yīng)用于光電顯示領(lǐng)域。
?性能特點(diǎn)：銦靶材更側(cè)重于導(dǎo)電性和機(jī)械強(qiáng)度，而ITO靶材則兼顧導(dǎo)電性和光學(xué)透明性。
技術(shù)破局：從粗放走向精純
現(xiàn)代銦回收工藝已形成精細(xì)鏈條：
預(yù)處理與富集：機(jī)械破碎液晶屏 → 高溫焚燒去除有機(jī)物 → 酸溶浸出（常用硫酸/鹽酸），將銦等金屬轉(zhuǎn)入溶液。
深度分離提純（核心技術(shù)）：
溶劑萃取法：利用特定有機(jī)溶劑（如P204）選擇性“捕獲”溶液中的銦離子，實(shí)現(xiàn)與鐵、鋅、錫等雜質(zhì)的深度分離，富集倍數(shù)可達(dá)千倍。
離子交換法：功能樹脂吸附銦離子，適用于低濃度溶液提純。
電解沉積：對(duì)富銦溶液通電，在陰極析出粗銦。
高純精煉：對(duì)粗銦進(jìn)行真空蒸餾、區(qū)域熔煉等，去除微量雜質(zhì)（如鎘、鉛），產(chǎn)出純度高達(dá)99.99%（4N）以上的精銦，滿足高端ITO靶材要求。
綠色升級(jí)：循環(huán)經(jīng)濟(jì)的必由之路
相比開采原生礦（主要來自鋅冶煉副產(chǎn)品），從電子垃圾中回收銦具有顯著優(yōu)勢(shì)：
資源保障：1噸廢棄液晶面板可提取200-300克銦，品位遠(yuǎn)超原礦。
節(jié)能減排：回收能耗僅為原生銦生產(chǎn)的1/3，大幅降低碳排放。
環(huán)境友好：減少電子垃圾填埋污染，避免采礦生態(tài)破壞。
經(jīng)濟(jì)可行：銦價(jià)高企（曾超1000美元/公斤）賦予回收強(qiáng)勁動(dòng)力。
