在實際生產(chǎn)中，ITO靶材通常被加工成圓形或矩形的塊狀，與濺射設備配合使用。濺射過程中，靶材的質(zhì)量直接影響薄膜的均勻性、附著力和性能。因此，高質(zhì)量的ITO靶材不僅是技術要求，更是生產(chǎn)效率和產(chǎn)品可靠性的保障。
制造ITO靶材是一項技術密集型的工作，涉及從原料配比到成型加工的多個環(huán)節(jié)。高質(zhì)量的ITO靶材需要具備高密度、均勻性和穩(wěn)定性，而這些要求背后隱藏著復雜的工藝和諸多挑戰(zhàn)。
區(qū)別對比
?成分差異：銦靶材為純金屬銦制成，而ITO靶材則是銦錫氧化物的復合物。
?用途不同：銦靶材主要用于需要高導電性和延展性的領域，如航空航天部件；ITO靶材則因其透明導電性廣泛應用于光電顯示領域。
?性能特點：銦靶材更側(cè)重于導電性和機械強度，而ITO靶材則兼顧導電性和光學透明性。
銦回收面臨的主要挑戰(zhàn)包括銦在電子設備中的低濃度和與其他金屬的合金化。傳統(tǒng)的回收方法難以有效提取，需要采用濕法冶金或火法冶金等先進技術。同時，回收過程中需確保電子廢物流的分類和處理，以減少污染物對回收過程的影響。
