從化學角度看，ITO是一種復合氧化物，其性能很大程度上取決于氧化銦和氧化錫的比例。氧化銦提供高透明度，而氧化錫的摻雜則增強了材料的導電性。通過控制這兩者的配比，ITO能夠在保持光學透明的同時，具備接近金屬的導電能力。這種“透明卻導電”的特性，使得ITO成為制造透明導電膜的理想選擇。
ITO靶材的核心用途是在磁控濺射工藝中作為“濺射源”。磁控濺射是一種常見的薄膜沉積技術，通過高能離子轟擊靶材表面，使靶材原子被“敲擊”出來，終沉積在基板上，形成一層均勻的ITO薄膜。這層薄膜厚度通常在幾十到幾百納米之間，卻能同時實現(xiàn)導電和透光的功能。
透明導電薄膜在現(xiàn)代光電行業(yè)中具有至關重要的地位，是觸摸屏、顯示器和太陽能電池等設備中的核心組件。ITO靶材憑借其出色的透明導電特性成為制備透明導電薄膜的材料。
ITO靶材的應用主要集中在以下幾個領域：
顯示技術：ITO薄膜用于LCD、OLED等顯示器件中的透明電極，確保設備既能透光顯示圖像，又能導電傳輸信號。
觸控技術：電容式和電阻式觸摸屏使用ITO作為電極材料，其透明性和導電性決定了觸控設備的靈敏度和視覺效果。
光伏技術：ITO薄膜作為太陽能電池的前電極材料，具有高透明性，能夠保證光線有效進入吸收層，從而提升光電轉換效率。
智能建筑與汽車應用：智能窗、加熱膜等系統(tǒng)中也使用ITO薄膜，其良好的導電性和耐環(huán)境穩(wěn)定性使其在智能玻璃和汽車加熱玻璃等應用中表現(xiàn)出色。
