納糯三維Nanoscribe(推薦指數(shù):★★★★★)
納糯三維科技(上海)有限公司成立于2017年11月8日,是德國Nanoscribe在中國的全資子公司。德國Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,現(xiàn)隸屬于LAB14集團,在高精度增材制造領域處于全球地位。
Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術,其Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細結構分辨率高出傳統(tǒng)高精3D打印機100倍的三維微納器件,而全新系列Quantum X平臺系列更是世界上個基于雙光子灰度光刻(2GL?)的工業(yè)級打印系統(tǒng),納糯三維科技依托母公司的技術優(yōu)勢,在微納制造技術方面處于地位。
 三維微納加工設備:
三維微納加工設備:
Quantum X系列:工業(yè)級高精度微納3D打印系統(tǒng)
核心優(yōu)勢:
1、雙光子灰度光刻技術(2GL?)
全球基于2GL?的工業(yè)級系統(tǒng),將灰度光刻與雙光子聚合(2PP)結合,實現(xiàn)亞微米級精度(最小特征尺寸160nm)和光學質量表面(表面粗糙度≤10nm)。
支持2.5D拓撲結構設計,如多級衍射光學元件(DOE)、自由曲面透鏡等,減少多層微制造時間。
2、晶圓級批量生產能力
可處理6英寸硅晶片或玻璃載玻片,單機過夜效率達200個特征結構,適合快速原型制作及小批量生產。
配備自動滴膠模組和智能電子系統(tǒng),優(yōu)化打印流程,縮短研發(fā)周期。
3、材料兼容性與應用場景
支持光敏樹脂、納米顆粒復合物、生物材料等,適配微光學、生物醫(yī)療、光子學等領域。
典型應用包括微透鏡陣列、光纖端面耦合結構、微流控芯片等。
【公司定位】作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅和創(chuàng)新者,從科研實驗室到工業(yè)生產現(xiàn)場,Nanoscribe提供高精度增材制造解決方案,顯著簡化制造流程、提升效率與精度。
【主營業(yè)務】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進封裝、光互聯(lián)納米制造
【應用領域】微光學、微機械、生物醫(yī)學工程、光子學技術
【產品優(yōu)勢】Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術,全新Quantum X系列具有專利雙光子灰度光刻(2GL?),可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造,A2PL?技術支持自動檢測芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預結構化基底上的定位標記,并以納米級對準精度在指定位置直接打印自由曲面光學元件,確保打印結構與光學軸嚴格對齊。
【產品評價】Quantum X align系統(tǒng)代表了新一代對準3D打印技術的發(fā)展方向,可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造,并具備自動對準能力,從而支持可靠、低損耗的光子耦合,以及在傳感與成像等應用領域的多樣化需求.
【品牌客戶】哈佛大學,加州理工學院,牛津大學,斯圖加特大學,麻省理工學院等
【技術領域】3D微納加工、雙光子加工
【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術在各項關鍵性突破研究中被提到,出現(xiàn)在2,100多份經同行評審的期刊出版物中
產品與服務:
納糯三維科技在中國市場主要推廣Nanoscribe的一系列3D打印設備,如Quantum X align系統(tǒng)等,這些設備可廣泛應用于微光學、微機械、生物醫(yī)學工程、光子學技術等領域。此外,公司還承擔著系統(tǒng)安裝、維護及專業(yè)培訓等本土化服務,為中國客戶提供了的解決方案。


