ITO靶材的核心用途是在磁控濺射工藝中作為“濺射源”。磁控濺射是一種常見的薄膜沉積技術(shù)，通過高能離子轟擊靶材表面，使靶材原子被“敲擊”出來，終沉積在基板上，形成一層均勻的ITO薄膜。這層薄膜厚度通常在幾十到幾百納米之間，卻能同時實現(xiàn)導(dǎo)電和透光的功能。
盡管制備方法看似成熟，但實際操作中仍有不少難題需要攻克：
成分配比的性：氧化錫的摻雜量通?？刂圃?-10%之間，過高會導(dǎo)致透明度下降，過低則影響導(dǎo)電性。如何在微觀尺度上實現(xiàn)均勻混合，是一個技術(shù)挑戰(zhàn)。
靶材密度：低密度靶材在濺射時容易產(chǎn)生顆粒飛濺，導(dǎo)致薄膜出現(xiàn)缺陷。提高密度需要優(yōu)化壓制和燒結(jié)條件，但這往往伴隨著成本的上升。
微觀結(jié)構(gòu)的控制：靶材內(nèi)部的晶粒大小和分布會影響濺射的穩(wěn)定性。晶粒過大可能導(dǎo)致濺射不均，而過小則可能降低靶材的機械強度。
熱應(yīng)力管理：在高溫?zé)Y(jié)過程中，靶材可能因熱膨脹不均而產(chǎn)生裂紋，影響成品率。
這些難點要求制造商在設(shè)備、工藝和質(zhì)量控制上投入大量精力。
銦靶材主要由金屬銦制成，具有質(zhì)軟、延展性好和導(dǎo)電性強的特點。作為稀有金屬，銦在自然界的含量稀少，但其獨特的物理和化學(xué)性質(zhì)使其成為眾多高科技產(chǎn)品的核心組件。銦靶材廣泛應(yīng)用于航空航天、電子工業(yè)等領(lǐng)域，是制造高性能電子元器件的關(guān)鍵材料。
透明導(dǎo)電薄膜在現(xiàn)代光電行業(yè)中具有至關(guān)重要的地位，是觸摸屏、顯示器和太陽能電池等設(shè)備中的核心組件。ITO靶材憑借其出色的透明導(dǎo)電特性成為制備透明導(dǎo)電薄膜的材料。
