ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現(xiàn)價值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

ITO靶材回收的必要性

1. 資源稀缺：銦為稀有金屬，資源有限，價格昂貴。

2. 成本控制：回收廢舊ITO靶材可降低企業(yè)原材料采購成本。

3. 環(huán)保要求：減少廢棄物排放，符合綠色生產(chǎn)理念。

ITO靶材回收注意事項：

措施：處理酸堿和廢液時需注意和環(huán)保。

環(huán)保合規(guī)：廢液和殘渣需達標處理，避免二次污染。

回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。