廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復(fù)雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達(dá)99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴(yán)格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現(xiàn)價值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

閉環(huán)回收帶來的不僅是環(huán)保效益：

供應(yīng)鏈：降低對原生銦礦進(jìn)口依賴，抵御價格波動風(fēng)險。

顯著降本：再生銦成本可低于原生銦30%以上，靶材企業(yè)毛利率提升。

品牌增值：滿足蘋果、三星等巨頭對再生材料比例的硬性要求。

技術(shù)壁壘：分離提純工藝構(gòu)成核心競爭力。

氧化銦錫(ITO)靶材廣泛應(yīng)用于平板顯示器和太陽能電池的生產(chǎn)，在ITO目標(biāo)使用了一段時間后，將其替換為新的目標(biāo)，用過的ITO靶含有大量的銦，可以通過各種工藝回收。

從用過的ITO靶材中回收氧化銦包括幾個步驟，包括溶解、沉淀和焙燒。首先將目標(biāo)材料溶解在鹽酸中，鹽酸溶解氧化銦，然后加入氫氧化鈉從酸性溶液中析出氧化銦。生成的氫氧化銦然后在高溫下焙燒得到氧化銦。