ITO靶材回收流程：

1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

氧化銦錫(ITO)靶材廣泛應用于平板顯示器和太陽能電池的生產，在ITO目標使用了一段時間后，將其替換為新的目標，用過的ITO靶含有大量的銦，可以通過各種工藝回收。

從用過的ITO靶材中回收氧化銦包括幾個步驟，包括溶解、沉淀和焙燒。首先將目標材料溶解在鹽酸中，鹽酸溶解氧化銦，然后加入氫氧化鈉從酸性溶液中析出氧化銦。生成的氫氧化銦然后在高溫下焙燒得到氧化銦。

從用過的ITO靶材中回收氧化銦的另一種方法是使用離子交換樹脂，離子交換樹脂用于選擇性地從酸性溶液中吸附銦，然后用酸性溶液將銦從樹脂中洗脫出來，并通過焙燒得到氧化銦。