ITO靶材的基本介紹
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應用領域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等
靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收流程
1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
提純銦的方法包括蒸餾法、電解法和區(qū)域精煉法。蒸餾通過高溫蒸發(fā)和冷凝來提純銦。電解利用電流來提純銦。區(qū)域精煉則通過移動的熔融區(qū)來提純銦。
總之，銦靶材回收是利用銦資源的重要步驟。盡管有多種回收方法，但分離和提純銦仍是關鍵挑戰(zhàn)。應繼續(xù)努力提高回收效率和可持續(xù)性，以確保銦資源的長期可獲得性。
我公司以含銦廢料的回收.加工提純和精銦的銷售回收為主業(yè)務。因生產(chǎn)需要長期高價回收絲.銦錠.銦塊.銦渣.各種廢銦.ITO廢舊靶材.靶粉.等一切含銦廢料。不論公司或個人，量大還是量小，一律現(xiàn)金結算。歡迎來電咨詢。
