ITO靶材的基本介紹
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應用領域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等
靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
主要回收業(yè)務：
銦類：銦錠、銦絲、精銦、銦線、銦粒、銦型材、銦片、銦板、銦帶、銦條、銦排、純銦、工業(yè)廢、銦、銦管、氧化銦、電解銦、高純銦、ITO靶材、ITO靶粉、銦錫合金、銦錫氧化物。
銦在半導體、液晶顯示器等電子器件的生產(chǎn)中發(fā)揮著重要作用。銦靶材通常用于物相沉積（PVD）工藝中，制造薄膜。然而，銦靶材的成本高昂，且供應有限，因此從廢棄或用過的靶材中回收銦變得至關重要。
銦靶材回收的主要任務是將銦從靶材中的其他金屬和材料中分離出來，并將其提純至高純度?；厥辗椒òɑ鸱ā穹ê碗娀瘜W法。
火法冶金工藝使用高溫熔煉和精煉來回收銦。這種方法適用于大規(guī)?；厥?，但存在一些缺點，如產(chǎn)生危險廢物、高能耗，以及可能損失有價值的銦。
濕法冶金工藝利用化學浸出劑將銦從靶材中溶解出來。這種方法比火法更環(huán)保，適用于從成分復雜的靶材中回收銦。然而，這一過程可能較為復雜，需要使用危險化學品。
電化學過程通過電流將銦從靶材中溶解和回收。這種方法也比火法更環(huán)保，可以回收較高純度的銦。但這一過程可能較為復雜，需要專門的設備和專業(yè)知識。
