ITO靶材的基本介紹
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等
靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材主流回收技術(shù)
機(jī)械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。
濕法化學(xué)回收：利用酸堿進(jìn)行溶解分離，適合大批量廢靶材。
熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。
ITO靶材回收注意事項(xiàng)：
措施：處理酸堿和廢液時(shí)需注意和環(huán)保。
環(huán)保合規(guī)：廢液和殘?jiān)柽_(dá)標(biāo)處理，避免二次污染。
回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。
主要回收業(yè)務(wù)：
銦類：銦錠、銦絲、精銦、銦線、銦粒、銦型材、銦片、銦板、銦帶、銦條、銦排、純銦、工業(yè)廢、銦、銦管、氧化銦、電解銦、高純銦、ITO靶材、ITO靶粉、銦錫合金、銦錫氧化物。
