由于銦靶材在半導體制造等領域有重要應用，一些半導體相關的企業(yè)和科研機構可能會有收購銦靶材的需求。這些企業(yè)通常對銦靶材的質量和規(guī)格有較高的要求，它們可能會通過專業(yè)的渠道或與行業(yè)內的供應商建立合作關系來獲取銦靶材。
ITO靶材回收流程
1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
ITO靶材主流回收技術
機械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。
濕法化學回收：利用酸堿進行溶解分離，適合大批量廢靶材。
熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。
ITO靶材回收注意事項：
措施：處理酸堿和廢液時需注意和環(huán)保。
環(huán)保合規(guī)：廢液和殘渣需達標處理，避免二次污染。
回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。
