閉環(huán)之困：損耗與機遇并存

ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

多種類回收技術如濕法冶金、火法冶金和物理分離法，提供了靈活的回收方式以適應不同的廢物類型和規(guī)模需求。濕法冶金回收中，酸浸法通過使用鹽酸或硫酸來溶解ITO廢料，使得銦以In3?的形式進入溶液。隨后，可以利用溶劑萃取、置換反應（例如，使用鋅粉進行置換）或電解法來進一步回收銦。生物浸出法利用特定的微生物，如硫氧化，來選擇性溶解銦。雖然這種方法環(huán)保，但目前其效率相對較低，仍處在研究階段?；鸱ㄒ苯鸹厥罩?，高溫熔煉將含銦廢料與還原劑（例如焦炭）一同進行高溫熔煉。在熔煉過程中，銦會富集在煙塵或熔渣中，隨后需要進一步的二次處理來進行提純。這種方法適用于大規(guī)模的回收操作，但能耗相對較高。

銦在半導體、液晶顯示器等電子器件的生產(chǎn)中發(fā)揮著重要作用。銦靶材通常用于物相沉積（PVD）工藝中，制造薄膜。然而，銦靶材的成本高昂，且供應有限，因此從廢棄或用過的靶材中回收銦變得至關重要。

總體來看，ITO靶粉回收是一項技術成熟、效益顯著的工作。通過合理的工藝設計和嚴格的管理，不僅可以節(jié)約資源、降低生產(chǎn)成本，還能減少對自然環(huán)境的壓力。未來，隨著技術的進步和環(huán)保意識的提升，這一領域有望得到更廣泛的應用和發(fā)展。