閉環(huán)之困：損耗與機遇并存
ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。
銦在半導體、液晶顯示器等電子器件的生產(chǎn)中發(fā)揮著重要作用。銦靶材通常用于物相沉積（PVD）工藝中，制造薄膜。然而，銦靶材的成本高昂，且供應(yīng)有限，因此從廢棄或用過的靶材中回收銦變得至關(guān)重要。
在分離銦和其他金屬和材料時，可以采用幾種方法，包括選擇性溶解、溶劑萃取、離子交換和沉淀。選擇性溶解使用化學浸出劑選擇性地溶解銦，而保持其他金屬和材料不變。溶劑萃取使用有機溶劑選擇性地提取銦。離子交換則通過樹脂吸附銦離子，同時留下其他離子。沉淀法使用化學試劑使銦從溶液中沉淀出來，而將其他金屬和材料留在溶液中。
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