閉環(huán)之困：損耗與機遇并存
ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。
ITO廢料來源于生產廢料、終端廢料及工業(yè)副產物，為回收提供了豐富資源。ITO廢料來源于多個方面。首先，在ITO靶材的生產過程中，會產生切削碎屑和鍍膜后的廢靶材，這些屬于生產廢料。其次，隨著電子產品的更新換代，廢棄的LCD面板、智能手機屏幕以及光伏薄膜等電子垃圾也逐漸增多，這些被稱為終端廢料。此外，金屬冶煉過程中也會產生含銦煙塵或廢渣，這屬于工業(yè)副產物。這些不同來源的ITO廢料，為銦的回收利用提供了豐富的資源。
隨著電子行業(yè)的發(fā)展，ITO靶材的需求量逐年增長，推動了對廢靶材回收的重視。目前，一些大型電子制造企業(yè)已開始建立自身的回收體系，或與專業(yè)回收公司合作，實現生產廢料的循環(huán)利用。技術進步也使得回收效率和金屬回收率不斷提高，進一步降低了生產成本。
總體來看，ITO靶粉回收是一項技術成熟、效益顯著的工作。通過合理的工藝設計和嚴格的管理，不僅可以節(jié)約資源、降低生產成本，還能減少對自然環(huán)境的壓力。未來，隨著技術的進步和環(huán)保意識的提升，這一領域有望得到更廣泛的應用和發(fā)展。
